西方国家也表现得相当“慷慨”，连光刻机这样的尖端产品也愿意出售。
可以说，西方对国内的“慷慨”，究竟是一时的好意还是险恶的阴谋，其中的利害实在意味深长。
另一方面，国内光刻机发展恰巧遭遇瓶颈，被卡在193nm光源已有小二十年。
既然能够轻松获取，为什么还要费劲研发呢？彼时的Z国远不算富裕，两相对比，“买办思想”很快就占据了主流。
逆水行舟不进则退，Z国与第一梯队的距离越来越大，很快便彻底脱节。
其实在这个领域，相比国内与美、日、欧的差距，第一梯队内部的斗争要惨烈且残酷得多。
光刻机的原理，其实并不复杂，甚至在发在初期，其复杂程度甚至不如照相机；一些对光刻机有需求的企业并不向专业厂商购买，而是买来零件自己组装，如英特尔。
而最早的光刻机发展潮流，是由M国人领导的。
1961年，M国GCA公司研制出第一台接触式光刻机，成为光刻机产业的巨头。
1967年，在M国空军的支持下，珀金埃尔默仪器公司推出世界首台投影式光刻机Micralign100，一夜间将芯片良率提升了7倍。
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